纯源镀膜设备——PI纯离子镀膜机
PIS210-2镀膜机腔体结构由装载腔室+真空镀膜工艺强势组合而成；镀膜工艺系统由纯离子镀膜（PIC）+离子束清洗（IONBEAM）组合而成。本设备为全自动设备。模块化控制，操作简单、维护方便，一键式操作即可完成多层镀膜膜沉积，适合光学镜头模具等高端产品的镀膜。
主要特点：
1、腔体结构由一个装载腔室和一个真空镀膜工艺腔室组合而成；
2、装载腔室装载的镀膜工艺腔室同步进行抽真空，极大缩短了镀膜前处理时间，提高工作效率；
3、装载腔室和镀膜工艺腔室之间我们设计采用插板阀隔开，可以有效隔断，稳定工艺气体；
4、传动采用磁导向，保障传动的稳定性。采用变频调速电机驱动，运行速度可调节。
技术优势：
1、PIC配有高效的电磁扫描系统和过滤系统，离子束能量和方向可调，可将等离子体中的杂质颗粒、宏观粒子、大型离子团等过滤干净，经过磁过滤后沉积粒子的离化率为，并且可以过滤掉大颗粒，制务的纳米薄膜非常致密和平整光滑，抗腐蚀性能好，与工件的结合力很强，在均匀性、致密性、结合度、硬度、摩擦系数、改变物质表面结构和消除薄膜颗粒等方面取得里程碑式的突破；
2、纯离子镀膜技术是低温艺，镀膜过程可以控制在80〫C以下。镀膜过程中即不需要高温也不会产生高温。可以应用于种低温熔解的基材上，如：塑料、橡胶等；
3、作为纯离子镀膜重要应用之一的类金刚石DLC镀膜，膜层可以达到75%以上的（金刚石键）SP3键，其物理化学性质和金刚石极其类似，薄膜具有极高的硬度（>75GPa）,极低的摩擦系数（<0.1），耐腐蚀性、光学透明度等一系列优异特征。可将镀膜件（基体）寿命延长7-10倍；
4、膜层的特点：a-镀膜温度低、无热应力、无热变形；b-高纯度，高致密；c-超硬，防刮花；d-摩擦系数小，耐磨损；e-化学性能稳定，耐腐蚀；f-均匀性好；g-无颗粒；h-膜层与模具本身结合力强；i-膜层与光学玻璃、树脂等产品不粘黏，易脱模；j-高热导等。