RIE(ReactiveIonEtching)离子刻蚀机：系列设备为真空等离子刻蚀机属于电子工业的干法清洗，工艺气体在电子区域形成等离子体，并产生电离气体和释放高能电子组成的气体，电离气体原子通过电场加速时，会释放足够的力量与表面驱逐力紧紧粘合材料或蚀刻表面，等离子体在工件表面发生反应，从而实现清洁、改性、刻蚀的目的，Zui后将污染物转换为气相，并通过真空泵用连续气体流将其排出。
特点及优势：
Ø 可定制刻蚀范围φ100-800mm,支持单源或多源组合；
Ø 刻蚀温度低于80℃，很好的兼容热敏感材料；
Ø 自由调节的刻蚀距离及速率，满足敏感材料应用需求。
Ø 等离子体密度高，刻蚀清洗效果好，具有良好的均匀性；
Ø 采用通用接口尺寸，模块化设计、互换性强，维护方便；
Ø 交钥匙设备，纯源公司提供整套解决方案，设备交接后即可投产；
应用领域：
Ø 可刻蚀材料:金属，非金属，合金，半导体(单晶硅、非晶硅、多硅，SO1)，金属氧化物，氮化物，碳化物，陶瓷，聚合物，超导材料等:>可褪碳基薄膜，可作为DLC/Ta-C薄膜的褪膜机使用
Ø 可应用在:3C消费电子，半导体，光学，交通工具，刀具模具，家电，新能源，医疗，国防航天，科研等行业。
安徽纯源镀膜科技有限公司（简称纯源镀膜），是由新加坡归国创业团队于2014年创立的高科技公司，主要从事真空纳米镀膜设备的设计、研发、加工制造、销售、售后服务和镀膜生产服务。
公司目前拥有设计、研发、工艺、市场和生产等各方面的专业人才，在纯离子镀膜(Pure IonCoating，简称PIC)、化学气相沉积（CVD）、磁控溅射、多弧离子镀、离子束刻蚀清洗等真空镀膜应用领域都拥有国内外先进技术。